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プロセス技術およびウェハファブ
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コンプリメンタリバイポーラ/BiCMOS
| 革新的なプロセス特性： |
- ワールドクラスの高性能コンプリメンタリ型バイポーラデバイスは、高速で、高いリニアリティを有するアンプおよび大規模な出力信号振幅を伴うドライバをもたらします。
- シリコン・オン・インシュレータ(SOI)回路はラッチアップ問題を排除し、最低消費電力で非常に速い立上り時間の高速ドライバおよびアンプ回路を可能にします。
- マキシムのプロセスは、高度に集積化されたICを作るために、25VのHV-CMOS回路でCMOSロジックを集積化することができます。
- 薄膜抵抗器は優れた整合回路および温度安定度を提供します。
- レーザトリミングが可能な薄膜抵抗器は、正確な利得、オフセット、レベル、および他の調節を提供します。
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| アプリケーション |
- 高速、広電圧範囲のピンドライバ
- 精密パラメータ測定装置
- 連続波ドップラ法形成装置(超音波診断装置等)
- 高精度DAC
- ローノイズVGA表示装置
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